采用直流反應(yīng)磁控濺射方法,通過(guò)濺射鑲嵌靶（CrMoTaNbV）和純Ti靶制備了（CrMoTaNbVTi）N多主元氮化物薄膜。研究了不同氮?dú)饬髁勘萊_N(N₂/（Ar+N₂）)對(duì)（CrMoTaNbVTi）N薄膜的微觀結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能和摩擦學(xué)性能的影響。結(jié)果表明,當(dāng)R_N=0%和R_N=10%時(shí)薄膜為簡(jiǎn)單的體心立方結(jié)構(gòu),當(dāng)RN=20%,30%,40%時(shí)為簡(jiǎn)單的面心立方結(jié)構(gòu)。隨著R_N的增大,表面顆粒逐漸減小,斷面柱狀晶更為致密,同時(shí)（CrMoTaNbVTi）N薄膜的殘余應(yīng)力、膜基結(jié)合力、硬度和彈性模量逐漸增大,且當(dāng)R_N=40%時(shí)達(dá)到最大值,分別為-3.3 GPa, 352 m N, 25.6±1.2GPa和278.8±11.2 GPa。R_N=40%制備的氮化物薄膜具有最小的比磨損率,相較合金薄膜降低了約1個(gè)數(shù)量級(jí),表現(xiàn)出優(yōu)異的耐磨損性能。

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【文章目錄】：
1 Experiment
2 Results and Discussion
    2.1 Chemical composition and deposition rate
    2.2 XRD analysis
    2.3 Surface and cross-sectional morphology
    2.4 Mechanical properties
3 Conclusions



本文編號(hào)：4057251