極紫外光刻掩模相位型缺陷的形貌重建方法
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【部分圖文】:
圖3 FP重建復(fù)振幅流程
式中:θmax為入射光與z軸夾角最大值。數(shù)值孔徑的增大使得成像過(guò)程可保留更多的高頻信息,能更好地還原振幅與相位變化[24]。FP重建空間像復(fù)振幅的流程如圖3所示,詳細(xì)算法可參考文獻(xiàn)[15]。2.2相位型缺陷的底部形貌參數(shù)重建模型
圖4 CNN示意圖
CNN模型如圖4所示。CNN模型中各卷積層和全連接層采用的激勵(lì)函數(shù)均為ReLU,輸入為空間像振幅與相位圖像。第一層為含有32個(gè)大小為3×3的卷積核的卷積層,卷積層的作用是特征提取;第二層是核大小為2×2,步長(zhǎng)為2的最大池化層,池化層的作用是降低待處理數(shù)據(jù)的數(shù)量;第三層為含有32個(gè)....
圖5 MLP示意圖
多層膜相位型缺陷的底部形貌參數(shù)重建流程如圖6所示,包含參數(shù)重建模型建模和缺陷底部形貌參數(shù)重建兩部分。在建模部分,首先生成含有不同底部形貌參數(shù)hbot、ωbot的相位型缺陷。由于表面形貌可由AFM測(cè)得,故設(shè)定htop、ωtop為固定值。在5~50nm之間以5nm為間隔選取|....
圖1 EUV光刻含缺陷多層膜示意圖。
Mo/Si層厚度比例保持為4.17nm/2.78nm。兩種典型的相位型缺陷,即凸起型缺陷與凹陷型缺陷如圖1所示。相位型缺陷影響多層膜反射光的振幅與相位,改變光刻成像系統(tǒng)中物的復(fù)振幅Aobject(x,y),從而影響空間像的復(fù)振幅Aoutput(x,y)。具有不同形貌參數(shù)Δ的缺....
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