本文關(guān)鍵詞：石英玻璃的化學(xué)機(jī)械磨削加工，，由筆耕文化傳播整理發(fā)布。

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第18卷第7期2010年7月光學(xué)精密工程Optics and Precision EngineeringV01.18 No.7Jul.2010文章編號1004—924X(2010)07—1554—08石英玻璃的化學(xué)機(jī)械磨削加工仇中軍1,周立波2,房豐洲1,椎名剛志2,江田弘2(L天津大學(xué)精密測試技術(shù)及儀器國家重點實驗室,天津300072;2.日本茨城大學(xué)工學(xué)部,茨城日立316—8511)摘要:為了實現(xiàn)石英玻璃基板的高效、高質(zhì)量加工,進(jìn)一步改善光掩模設(shè)備的性能,進(jìn)行了石英玻璃化學(xué)機(jī)械磨削(CMG)加工技術(shù)的研究。通過在磨削過程中主動增強(qiáng)磨粒、結(jié)合劑以及磨削液與工件的化學(xué)反應(yīng),并使化學(xué)反應(yīng)與機(jī)械去除作用形成動態(tài)平衡,從而消除因材料脆性去除而造成的表面損傷等,實現(xiàn)了大口徑玻璃工件的高表面質(zhì)量、高形狀精度的加工。針對石英玻璃CMG加工的特點,開發(fā)了CMG專用砂輪及磨削液,利用正交實驗法優(yōu)化了石英玻璃CMG加工工藝參數(shù),分析了CMG加工過程中磨削壓力、砂輪轉(zhuǎn)速、磨削液流量、pH值等因素對加工表面粗糙度及加工效率的影響,并利用優(yōu)化后的工藝參數(shù)加工得到了兄為0.795 am的石英玻璃表面。加工后基板的光學(xué)性能和化學(xué)機(jī)械拋光(CMP)加工基板的光學(xué)性能相同,能夠滿足光掩模設(shè)備的性能需求。關(guān)鍵詞:化學(xué)機(jī)械磨削;石英玻璃;正交試驗法中圖分類號:TQl71.68 文獻(xiàn)標(biāo)識... 內(nèi)容來自轉(zhuǎn)載請標(biāo)明出處.

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