目前制造的準(zhǔn)直器多為單孔結(jié)構(gòu)且孔徑較大,且少量多孔準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)均勻性差、尺寸精度低,導(dǎo)致準(zhǔn)直效果差。研究使用電子束曝光技術(shù)在鍍有鉻金屬層和PMMA膠層的石英玻璃表面進(jìn)行曝光,探究了抗蝕劑厚度、曝光劑量、顯影時(shí)間對曝光效果的影響。經(jīng)過大量實(shí)驗(yàn)并合理化參數(shù)后,曝光出線寬為5μm、周期為120μm的光柵圖形。使用濕法刻蝕技術(shù)將膠層圖形結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到石英玻璃上,探究刻蝕溫度、刻蝕液配比對刻蝕效果的影響。發(fā)現(xiàn)在刻蝕溫度30℃、刻蝕液為氫氟酸、鹽酸和氟化銨的混合液條件下,最終在石英玻璃表面刻蝕出線寬13.265μm、深度4.049μm的槽結(jié)構(gòu)。采用激光對刻蝕出槽結(jié)構(gòu)的玻璃進(jìn)行等大小切割并將切割好的玻璃進(jìn)行結(jié)合,可獲得具有一定深寬比、結(jié)構(gòu)均勻的準(zhǔn)直器結(jié)構(gòu)。

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【部分圖文】：

圖1 準(zhǔn)直器制備主要工藝步驟

本文基于電子束曝光技術(shù)，在光刻膠層形成槽結(jié)構(gòu)，利用濕法刻蝕技術(shù)將膠層的槽結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)移到石英玻璃基體上，最終在石英玻璃基體上面得到所需陣列槽結(jié)構(gòu)。準(zhǔn)直器的制備主要工藝步驟見圖1。1電子束曝光工藝

圖2 電子束曝光技術(shù)系統(tǒng)原理圖

電子束曝光技術(shù)由許多部件組成，其主要部件有電光學(xué)系統(tǒng)、精密工作臺、圖形發(fā)生器、真空控制系統(tǒng)[8]。圖2是電子束曝光技術(shù)系統(tǒng)原理圖。1.2電子束曝光工藝概述

圖3 電子束曝光流程示意圖

電子束曝光技術(shù)的工藝流程主要包括襯底材料預(yù)處理、涂膠、前烘處理、版圖設(shè)計(jì)、電子束曝光、顯影和定影。電子束曝光流程示意圖見圖3。實(shí)驗(yàn)采用石英玻璃為襯底，因石英玻璃為絕緣體，在電子束曝光前需對其蒸鍍一層厚約200nm的金屬鉻，從而可有效避免曝光過程中電荷積累的現(xiàn)象[9-10]。在電....

圖4 KW-4A勻膠機(jī)

實(shí)驗(yàn)采用石英玻璃為襯底，因石英玻璃為絕緣體，在電子束曝光前需對其蒸鍍一層厚約200nm的金屬鉻，從而可有效避免曝光過程中電荷積累的現(xiàn)象[9-10]。在電子束曝光前，還需在鉻金屬層表面涂覆一層幾十到幾百納米厚度的光刻膠。本實(shí)驗(yàn)采用旋轉(zhuǎn)涂覆法將PMMA膠涂覆到金屬鉻層表面，所用儀器....

本文編號：4035091