發(fā)布時間：2025-05-01 07:36

　　 采用多弧離子鍍技術在金屬鈦表面成功制備出連續(xù)致密且厚度均勻的α-Ta相Ta-10W涂層。在900℃下分別對涂層進行高溫氧化和真空擴散處理,通過XRD、SEM、EDS等分析測試手段對涂層的抗氧化性能及元素擴散行為進行研究。結果表明:在高溫氧化過程中,存在氧化和擴散雙重作用,涂層與基體間發(fā)生相互擴散且涂層表面形成氧化膜,致使涂層脆化,但涂層/基體界面處氧化不明顯,說明Ta-10W涂層對基體起到了有效的抗氧化作用;在真空擴散過程中,Ta向基體中擴散較為劇烈且沿著逐漸趨直的α-Ti晶界進行擴散。

【文章頁數(shù)】：5 頁

【文章目錄】：
0 引言
1 實驗
2 結果與分析
    2.1 沉積態(tài)涂層的組織結構分析
    2.2 高溫氧化態(tài)涂層組織結構分析
        2.2.1 涂層表面和截面形貌分析
        2.2.2 氧化后涂層物相及結構分析
    2.3 真空高溫擴散行為分析
        2.3.1 涂層表面與界面形貌分析
        2.3.2 真空擴散后試樣物相分析
3 結論



本文編號：4041899